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氮化鎵 (GAN)氧化爐

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發(fā)布時(shí)間: 2024/10/31 15:27:00
 
青島晨立電子有限公司 “未認(rèn)證”表示未核實(shí)營(yíng)業(yè)執(zhí)照
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公司名稱:青島晨立電子有限公司
聯(lián) 系 人:姜經(jīng)理 先生 經(jīng)理
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氮化鎵 (GAN)氧化爐 詳細(xì)說明
  該設(shè)備用于氮化鎵(GAN)芯片生產(chǎn)工藝過程中的真空退火、合金、氧化、擴(kuò)散等工藝。該系統(tǒng)具有精確溫度控制系統(tǒng)和真空壓力控制系統(tǒng)。

主要參數(shù):

工作溫度范圍: 600-1280 度。

使用溫度:1200 度。

每爐可處理 25 片。標(biāo)準(zhǔn)晶圓舟 25 片。

爐管有效口徑:滿足 6 寸片,可向下兼容 4、2 寸。

升溫功率:18KVA/每管 。

電源:三相五線制: 380V 三相五線。


具有斷偶、超溫報(bào)警以及二次保護(hù)功能。


島晨立電子有限公司成立于2009年,是半導(dǎo)體設(shè)備、真空設(shè)備生產(chǎn)、研發(fā)、銷售廠家。為客戶提供先進(jìn)材料熱處理、高精度電加熱設(shè)備及系統(tǒng)集成等全套解決方案。

主要產(chǎn)品:晶圓真空退火爐、晶圓真空合金爐、半導(dǎo)體材料氧化爐、真空共晶爐、封裝外殼燒結(jié)爐、非晶材料磁場(chǎng)退火爐、高精度智能溫度控制系統(tǒng)和替代進(jìn)口的擴(kuò)散爐加熱器等,同時(shí)承接各種微電子生產(chǎn)線,進(jìn)口半導(dǎo)體專用設(shè)備的翻新升級(jí)改造及各大專院校科研院所的非標(biāo)研發(fā)定制工作。
本產(chǎn)品網(wǎng)址:http://m.kangwai.cn/cpshow_224481991/
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產(chǎn)品名稱:氮化鎵 (GAN)氧化爐
 
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